年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99,996%)

三氟化氮 (Stickstoff). Trifluorid）, 化学式NF3,是⼀种强氧化剂.
在微电⼦⼯业中,三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体,在半导体芯⽚、平板显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域, 三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体和反应腔清洗剂.它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热来实现其应⽤

Stickstofftrifluorid, chemische Formel NF3, ist ein starkes Oxidationsmittel. Als wichtiges industrielles Spezialgas verfügt es über ein breites Anwendungsspektrum.
In der Mikroelektronikindustrie ist Stickstofftrifluorid ein ausgezeichnetes Plasmaätzgas; In Halbleiterchips, Flachbildschirmen, optischen Fasern, Photovoltaikzellen und anderen Fertigungsbereichen wird Stickstofftrifluorid hauptsächlich als Plasmaätzgas und Reaktionshohlraumreinigungsmittel verwendet.
Es kann auch in hochenergetischen chemischen Lasern verwendet werden, um seine Anwendung zu erreichen, indem es mit Wasserstoff reagiert und augenblicklich eine große Wärmemenge abgibt. Stickstofftrifluorid wird auch als hochenergetischer Treibstoff sowie als Oxidationsmittel und Treibstoff bei Raketenstarts verwendet.